[实用新型]曝光机的平台模组有效

专利信息
申请号: 200820131976.2 申请日: 2008-08-22
公开(公告)号: CN201269969Y 公开(公告)日: 2009-07-08
发明(设计)人: 简泰宽 申请(专利权)人: 志圣工业股份有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;H05K3/00
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 代理人: 李树明
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 一种曝光机的平台模组,包含一下平台、一上平台、数个定位凹穴以及数个定位销组。定位凹穴设置于上平台。定位销组设置于下平台并且分别对应所述定位凹穴,每一定位销组包括一销件及一线性衬套。销件可弹性的相对于下平台上下位移并且具有一往上凸出下平台的凸出端,凸出端用以当上平台邻近下平台时伸入定位凹穴内。线性衬套套设于销件,用以导引销件相对于下平台上下位移。通过线性衬套的设置,使销件只有上下方向的活动自由度,使上平台与下平台的定位可更确实。
搜索关键词: 曝光 平台 模组
【主权项】:
1. 一种曝光机的平台模组,包含一下平台、一位于该下平台上方并可受驱动往下邻近该下平台的上平台、数个设置于该上平台的定位凹穴、数个设置于该下平台并且分别对应所述定位凹穴的定位销组;其特征在于:每一定位销组包括一销件,可弹性的相对于该下平台上下位移并且具有一往上凸出该下平台的凸出端,通过该上平台邻近该下平台,该凸出端伸入该定位凹穴内;以及一线性衬套,套设于该销件,用以导引该销件相对于该下平台上下位移。
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