[实用新型]一种具有紫外响应的硅基成像器件无效

专利信息
申请号: 200820152099.7 申请日: 2008-08-18
公开(公告)号: CN201247776Y 公开(公告)日: 2009-05-27
发明(设计)人: 田鑫;张大伟;刘猛;倪争技;黄元申;庄松林 申请(专利权)人: 上海理工大学
主分类号: H01L27/146 分类号: H01L27/146;H01L27/148;H01L31/09;H01L31/0232
代理公司: 上海东创专利代理事务所 代理人: 宁芝华
地址: 20009*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 一种具有紫外响应的硅基成像器件,其特征在于:在硅基成像器件光敏元基片的一面镀一层可将紫外辐射转换为可见光的Alq3材料的变频薄膜,与硅基成像器件光敏元基片致密结合。所述的变频薄膜,Alq3材料是经过预烘烤后的有机金属配价物Alq3粉末作为镀膜材料。所述的变频薄膜厚度:光学厚度125nm。本实用新型不但有效提高了硅基成像器件紫外响应的能力,而且克服了有机变频薄膜随时间衰减老化的问题。能够有效增强硅基成像器件对紫外光的敏感度,将探测区域拓展到紫外波段。
搜索关键词: 一种 具有 紫外 响应 成像 器件
【主权项】:
1. 一种具有紫外响应的硅基成像器件,其特征在于:在硅基成像器件光敏元基片的一面镀一层可将紫外辐射转换为可见光的Alq3材料的变频薄膜,与硅基成像器件光敏元基片致密结合。
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