[实用新型]光罩盒有效
| 申请号： | 200820156409.2 | 申请日： | 2008-12-02 |
| 公开（公告）号： | CN201319112Y | 公开（公告）日： | 2009-09-30 |
| 发明（设计）人： | 胡晓栋;庄忠华 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/00 | 分类号： | G03F1/00;G03F7/20;H01L21/673;B65D85/30;B65D81/02;B65D77/26;B65D25/10 |
| 代理公司： | 上海翼胜专利商标事务所（普通合伙） | 代理人： | 翟 羽 |
| 地址： | 201210*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本实用新型提供一种光罩盒，包含底座、壳罩以及过滤器，所述底座具有镂空部分，所述过滤器固定于所述底座的镂空部分，所述过滤器包括两个相对设置的侧边，该两个侧边上均设置有至少两个卡块，且所述镂空部分的边缘设置有对应的至少两个卡槽，所述过滤器通过将所述卡块与所述卡槽相互卡紧的方式固定到所述底座的镂空部分上。本实用新型所提供的光罩盒能增强过滤器与光罩盒的稳定固持，避免过滤器脱落对光罩造成刮伤。 | ||
| 搜索关键词： | 光罩盒 | ||
【主权项】：
1.一种光罩盒，包含底座、壳罩以及过滤器，所述底座具有镂空部分，所述过滤器固定于所述底座的镂空部分，其特征在于，所述过滤器包括两个相对设置的侧边，该两个侧边上均设置有至少两个卡块，且所述镂空部分的边缘设置有对应的至少两个卡槽，所述过滤器通过将所述卡块与所述卡槽相互卡紧的方式固定于所述底座的镂空部分。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
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