[实用新型]便于光刻掩膜版图形检验的菲林片有效
| 申请号： | 200820158098.3 | 申请日： | 2008-12-29 |
| 公开（公告）号： | CN201345031Y | 公开（公告）日： | 2009-11-11 |
| 发明（设计）人： | 吕姝;陈诚;叶青 | 申请（专利权）人： | 上海蓝光科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/14 | 分类号： | G03F1/14 |
| 代理公司： | 上海光华专利事务所 | 代理人： | 余明伟;尹丽云 |
| 地址： | 201203上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及一种便于光刻掩膜版图形检验的菲林片，利用现有的菲林印刷技术，将一种芯片产品的几道光刻掩模版图形设计制作在一张与晶片大小尺寸相当，厚度为0.2mm-2mm的菲林片上，从而替代了利用标准光刻掩模版将图形临时转移到一张基底片上，这样做不仅可以减少在图形转移过程中带来的误差，同时还可以避免占用基底片的麻烦。 | ||
| 搜索关键词： | 便于 光刻 版图 检验 菲林片 | ||
【主权项】：
1、一种便于光刻掩膜版的图形检验的菲林片，其包括菲林片层以及黏着在该菲林片层上的一层图形层，其特征在于：所述图形层上分别设有一个以上的对位标记和与该对位标记相邻的芯片图形。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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