[实用新型]一种高功率平面磁控溅射阴极无效

专利信息
申请号: 200820158802.5 申请日: 2008-10-17
公开(公告)号: CN201301339Y 公开(公告)日: 2009-09-02
发明(设计)人: 陈理;李国强 申请(专利权)人: 湖南玉丰真空科学技术有限公司
主分类号: C23C14/35 分类号: C23C14/35
代理公司: 湘潭市雨湖区创汇知识产权代理事务所 代理人: 左祝安
地址: 411100湖*** 国省代码: 湖南;43
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摘要: 一种高功率平面磁控溅射阴极,它属于一种双银层低辐射膜。它主要是解决现有的平面磁控溅射阴极其磁铁浸泡在水中,用久了会消磁等技术问题。其技术方案要点是:它由包括阴极体(4)、靶材(1)和磁铁构成,靶材(1)安装在阴极体(4)的上部,在阴极体(4)的内腔内设置有密闭的冷却通道(2),在阴极体(4)内腔内其底部与冷却通道(2)之间设置有磁靴(5),在冷却通道(2)与磁靴(5)之间设置有磁铁(3)。它通过在阴极体内部设置一个独立的冷却通道,从而使磁铁不与冷却媒介接触,避免永久磁铁被冷却媒介腐蚀;并通过设计具有高导热性能材料制成的热传导板与靶材大面积接触,从而可使靶材得到充分的冷却,使阴极能承受更高的功率。它可广泛应用于真空磁控溅射镀膜设备上。
搜索关键词: 一种 功率 平面 磁控溅射 阴极
【主权项】:
1、一种高功率平面磁控溅射阴极,它由包括阴极体(4)、靶材(1)和磁铁构成,在阴极体(4)的内腔内安装有磁铁,靶材(1)安装在阴极体(4)的上部,其特征是:在阴极体(4)的内腔内设置有密闭的冷却通道(2),在阴极体(4)内腔内其底部与冷却通道(2)之间设置有磁靴(5),在冷却通道(2)与磁靴(5)之间设置有磁铁(3)。
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