[实用新型]抛光垫有效

专利信息
申请号: 200820177406.7 申请日: 2008-10-30
公开(公告)号: CN201287300Y 公开(公告)日: 2009-08-12
发明(设计)人: 邱汉郎;陈少禹;郑裕隆 申请(专利权)人: 贝达先进材料股份有限公司
主分类号: B24D11/00 分类号: B24D11/00
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 代理人: 周长兴
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 一种抛光垫,特别是有关于一种具有两种沟槽态样的抛光垫。此抛光垫具有一抛光面,且于抛光面上形成至少一第一沟槽以及至少一第二沟槽,其中抛光垫的特征在于:第一沟槽与第二沟槽相连通,且第一沟槽的宽度较第二沟槽的宽度为大,以及第一沟槽的深度较第二沟槽的深度为大。以抛光垫进行研磨作业时,因抛光而产生的碎屑或是抛光液中的研磨颗粒,较为细小者或浑浊的抛光液可由第二沟槽流出抛光垫,较为粗大的碎屑或颗粒可由第一沟槽流出抛光垫,因此使抛光垫不易因残留研磨颗粒或沉淀物,而导致抛光物的表面刮伤与损坏。
搜索关键词: 抛光
【主权项】:
1、一种抛光垫,该抛光垫具有一抛光面,且该抛光面上形成至少一第一沟槽以及至少一第二沟槽,其中该抛光垫的特征在于:该第一沟槽与该第二沟槽相连通,且该第一沟槽的宽度较该第二沟槽的宽度为大,以及该第一沟槽的深度较该第二沟槽的深度为大。
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