[实用新型]一种适用于配合物晶体合成实验研究的恒温培育装置无效

专利信息
申请号: 200820209972.1 申请日: 2008-10-21
公开(公告)号: CN201279465Y 公开(公告)日: 2009-07-29
发明(设计)人: 李榕生;孔祖萍;姜晶晶;杨欣;宋岳;刘晓利 申请(专利权)人: 宁波大学
主分类号: B01L7/02 分类号: B01L7/02;C30B7/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 315211浙江省宁波市*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 实用新型涉及一种适用于配合物晶体合成实验研究的恒温培育装置,属于单晶生长领域。配合物小晶体合成条件筛查工作中普遍存在昼夜温差干扰问题,本案旨在解决这一问题。本案装置包括一个盘状水槽,在盘状水槽的侧壁上装设有进水接口以及出水接口,以及,带有许多孔洞的盖板,该盖板是活动的盖板,本案要点是,所述孔洞是有底的凹形坑洞,凹形坑洞的内腔形状呈圆柱状,凹形坑洞的深度尺寸介于5.0厘米到6.0厘米之间,凹形坑洞的圆柱形内腔直径介于5.3厘米到5.5厘米之间,盘状水槽的每一侧壁的横断面形状呈曲柄形状,盘状水槽的边沿包绕在盖板的边沿之外。本案克服了所述问题,其应用可以为相关筛查实验提供温度受到精细控制的较理想条件。
搜索关键词: 一种 适用于 配合 晶体 合成 实验 研究 恒温 培育 装置
【主权项】:
1. 一种适用于配合物晶体合成实验研究的恒温培育装置,包括一个盘状水槽,在盘状水槽的侧壁上装设有进水接口以及出水接口,进水接口以及出水接口与盘状水槽内部联通,以及,带有许多孔洞的盖板,该盖板是活动的盖板,其特征是,所述孔洞是有底的凹形坑洞,凹形坑洞的内腔形状呈圆柱状,凹形坑洞的深度尺寸介于5.0厘米到6.0厘米之间,凹形坑洞的圆柱形内腔直径介于5.3厘米到5.5厘米之间,盘状水槽的每一侧壁的横断面形状呈曲柄形状,盘状水槽的边沿包绕在盖板的边沿之外。
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