[实用新型]一种连续卷绕式磁控溅射真空镀膜装置无效

专利信息
申请号: 200820235937.7 申请日: 2008-12-30
公开(公告)号: CN201326012Y 公开(公告)日: 2009-10-14
发明(设计)人: 丘仁政;陈汉文;罗宾 申请(专利权)人: 丘仁政;陈汉文;罗宾
主分类号: C23C14/35 分类号: C23C14/35;C23C14/56
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 518000广东省深圳*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 实用新型属于板式太阳能中的太阳能选择性吸收涂层的连续镀膜设备。一种连续卷绕式磁控溅射真空镀膜装置,包括放卷室、收卷室、张力控制室、预处理室、工艺室组成,放卷室和收卷室分别位于设备的首末两端,放卷室和收卷室分别与一个张力控制室连接,放卷室一端的张力控制室连接有预处理室,预处理室和收卷室一端的张力控制室之间设置有至少一个工艺室,放卷室、收卷室的一端及张力控制室、预处理室、工艺室的两端均设置有相同规格的法兰盘,通过法兰盘依次连接放卷室、收卷室、张力控制室、预处理室、工艺室为一体。本实用新型可以提供一种长时间持续镀制太阳能选择性涂层的专用镀膜设备,该设备具有生产效率高,质量稳定和膜层性能优异的优点。
搜索关键词: 一种 连续 卷绕 磁控溅射 真空镀膜 装置
【主权项】:
1、一种连续卷绕式磁控溅射真空镀膜装置,包括放卷室、收卷室、张力控制室、预处理室、工艺室组成,其特征在于:放卷室和收卷室分别位于设备的首末两端,放卷室和收卷室分别与一个张力控制室连接,放卷室一端的张力控制室连接有预处理室,预处理室和收卷室一端的张力控制室之间设置有至少一个工艺室,上述的放卷室、收卷室的一端及张力控制室、预处理室、工艺室的两端均设置有相同规格的法兰盘,并通过法兰盘依次连接上述放卷室、收卷室、张力控制室、预处理室、工艺室为一体,所述的放卷室、张力控制室、预处理室、工艺室、收卷室均为真空室,所述的放卷室、张力控制室、预处理室、工艺室、收卷室中均设有传输使用的辊。
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