[发明专利]光学层压体的制造方法及图像显示装置有效
| 申请号： | 200880000149.2 | 申请日： | 2008-02-04 |
| 公开（公告）号： | CN101542333A | 公开（公告）日： | 2009-09-23 |
| 发明（设计）人： | 井上彻雄 | 申请（专利权）人： | 日东电工株式会社 |
| 主分类号： | G02B5/30 | 分类号： | G02B5/30;G02F1/1335;G02F1/13363 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所 | 代理人： | 刘新宇;李茂家 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明对于具有含有溶致液晶性化合物的涂膜的光学层压体，提供一种能够防止该涂膜白浊化的光学层压体的制造方法。本发明是一种光学层压体的制造方法，所述光学层压体具有基材和层压在该基材的至少一面上的含有溶致液晶性化合物的涂膜，该方法包括如下工序：通过在基材上涂布含有一种以上溶致液晶性化合物的溶液而形成湿涂膜的工序A；在与该工序A同时，或者在进行该工序A之后湿涂膜干燥之前，通过对湿涂膜的表面吹风而将湿涂膜干燥的工序B。在该工序B中，风优选从倾斜的方向吹送，风向优选相对于基材的平面为0～60°以下。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 层压 制造 方法 图像 显示装置 | ||
【主权项】：
1.一种光学层压体的制造方法，其特征在于，所述光学层压体具有基材和层压在该基材的至少一面上的含有溶致液晶性化合物的涂膜，该方法包括如下工序：通过在基材上涂布含有一种以上溶致液晶性化合物的溶液而形成湿涂膜的工序A；在与所述工序A同时，或者在进行所述工序A之后湿涂膜干燥之前，通过对所述湿涂膜的表面吹风而将湿涂膜干燥的工序B。
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