[发明专利]荧光体的表面处理方法及平面显示装置的制造方法无效
| 申请号： | 200880000209.0 | 申请日： | 2008-02-12 |
| 公开（公告）号： | CN101541917A | 公开（公告）日： | 2009-09-23 |
| 发明（设计）人： | 石井启太;青木克之 | 申请（专利权）人： | 株式会社东芝 |
| 主分类号： | C09K11/08 | 分类号： | C09K11/08;H01J9/227 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人： | 冯 雅 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 使有机酸金属盐与荧光体粒子接触，从而使有机酸金属盐附着，形成表面形成有有机酸金属盐层的荧光体粒子，使用该荧光体粒子形成荧光体层时，在进行烧成的同时将有机酸金属盐层制成金属氧化膜。 | ||
| 搜索关键词： | 荧光 表面 处理 方法 平面 显示装置 制造 | ||
【主权项】：
1.一种荧光体的表面处理方法，其特征在于，具有如下工序：使有机酸金属盐与荧光体粒子接触，从而使有机酸金属盐附着，形成表面形成有有机酸金属盐层的荧光体粒子。
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