[发明专利]等离子体显示板的制造方法无效
| 申请号： | 200880000892.8 | 申请日： | 2008-03-25 |
| 公开（公告）号： | CN101548356A | 公开（公告）日： | 2009-09-30 |
| 发明（设计）人： | 古牧初美;高木伸悟;日向亮二;三舩达雄 | 申请（专利权）人： | 松下电器产业株式会社 |
| 主分类号： | H01J11/02 | 分类号： | H01J11/02;H01J9/02 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 汪惠民 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明的PDP制造方法是将在玻璃基板上形成显示电极、遮光层及电介质层的前面板与在基板上形成电极、隔壁及荧光体层的背面板相对配置并将周围密封形成放电空间的PDP的制造方法，其特征在于具备：用至少包含含有银及玻璃材料的金属电极层和含有黑色材料及玻璃材料的黑色层的多层形成显示电极的步骤；在电介质层添加氧化铋使其含量为5重量％以上25重量％以下的步骤；在570℃～590℃下烧结形成电介质层的步骤。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子体 显示 制造 方法 | ||
【主权项】：
1. 一种等离子体显示板的制造方法，其是将在玻璃基板上形成有显示电极、遮光层及电介质层的前面板与在基板上形成有电极、隔壁及荧光体层的背面板相对配置，并将周围密封形成放电空间的等离子体显示板的制造方法，其特征在于，具备：以多层形成所述显示电极的步骤，所述多层至少包括含有银及玻璃材料的金属电极层和含有黑色材料及玻璃材料的黑色层；向所述电介质层添加氧化铋(Bi2O3)使其含量为5重量％以上25重量％以下的步骤；以及，在570℃～590℃下烧结形成所述电介质层的步骤。
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