[发明专利]单结太阳能电池装置所采用的薄膜式金属氧化物半导体材料无效

专利信息
申请号: 200880001627.1 申请日: 2008-09-26
公开(公告)号: CN101578709A 公开(公告)日: 2009-11-11
发明(设计)人: 霍华德·W·H·李 申请(专利权)人: STION太阳能电池有限公司
主分类号: H01L31/109 分类号: H01L31/109
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 代理人: 蔡胜有;吴亦华
地址: 美国加利*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 一种单结太阳能电池结构,所述结构包括具有表面区域的基板构件;所述基板构件表面区域上覆盖的第一电极结构;第一电极结构上形成的P型吸收层。在具体的实施例中,所述P型吸收层具有P型杂质特征和第一光吸收系数,所述第一光吸收系数在400nm到800nm的波长范围内大于104cm-1。P型层及P型层与N+层的附近区域内形成的界面区之上,设置了一个N+层。所述结构还包括N+层上覆盖的高阻缓冲层;以及缓冲层上覆盖的第二电极结构。
搜索关键词: 太阳能电池 装置 采用 薄膜 金属 氧化物 半导体材料
【主权项】:
1.一种单结太阳能电池结构,所述结构包括:具有一表面区域的基板构件;所述基板构件表面区域上覆盖的第一导电层;覆盖在所述导电层上的一个P型吸收层,所述P型吸收层具有P型杂质特征和在400nm到800nm的波长范围内大于104cm-1的第一光吸收系数;覆盖在所述P型吸收层上的一个N+层;所述P型吸收层的第一表面区与所述N+层的第二表面区的附近区域内,所形成的一个界面区。覆盖在所述N+层上的一个高阻缓冲层;以及覆盖在所述缓冲层上的第二导电层。
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