[发明专利]单结太阳能电池装置所采用的薄膜式金属氧化物半导体材料无效
申请号: | 200880001627.1 | 申请日: | 2008-09-26 |
公开(公告)号: | CN101578709A | 公开(公告)日: | 2009-11-11 |
发明(设计)人: | 霍华德·W·H·李 | 申请(专利权)人: | STION太阳能电池有限公司 |
主分类号: | H01L31/109 | 分类号: | H01L31/109 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 | 代理人: | 蔡胜有;吴亦华 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 一种单结太阳能电池结构,所述结构包括具有表面区域的基板构件;所述基板构件表面区域上覆盖的第一电极结构;第一电极结构上形成的P型吸收层。在具体的实施例中,所述P型吸收层具有P型杂质特征和第一光吸收系数,所述第一光吸收系数在400nm到800nm的波长范围内大于104cm-1。P型层及P型层与N+层的附近区域内形成的界面区之上,设置了一个N+层。所述结构还包括N+层上覆盖的高阻缓冲层;以及缓冲层上覆盖的第二电极结构。 | ||
搜索关键词: | 太阳能电池 装置 采用 薄膜 金属 氧化物 半导体材料 | ||
【主权项】:
1.一种单结太阳能电池结构,所述结构包括:具有一表面区域的基板构件;所述基板构件表面区域上覆盖的第一导电层;覆盖在所述导电层上的一个P型吸收层,所述P型吸收层具有P型杂质特征和在400nm到800nm的波长范围内大于104cm-1的第一光吸收系数;覆盖在所述P型吸收层上的一个N+层;所述P型吸收层的第一表面区与所述N+层的第二表面区的附近区域内,所形成的一个界面区。覆盖在所述N+层上的一个高阻缓冲层;以及覆盖在所述缓冲层上的第二导电层。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
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