[发明专利]提供离子源供料材料的技术无效
| 申请号： | 200880001770.0 | 申请日： | 2008-01-08 |
| 公开（公告）号： | CN101578681A | 公开（公告）日： | 2009-11-11 |
| 发明（设计）人： | 克里斯多夫·R·汉特曼;奎格·R·钱尼;艾利克·R·科步;约瑟·C·欧尔森;奎斯·坎贝儿 | 申请（专利权）人： | 瓦里安半导体设备公司 |
| 主分类号： | H01J27/02 | 分类号： | H01J27/02;H01J37/08;H01J37/317;F17C9/02 |
| 代理公司： | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 | 代理人： | 臧建明 |
| 地址： | 美国麻*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 揭示一种提供离子源供料材料的技术。在一特定实施例中，此技术可实现为供应离子源供料材料的容器。容器可包括内腔，其预填充有离子源供料材料。容器还可包括外主体，其配置为可载入对应的外罩内并可由外罩内移除，外罩经由喷嘴总成耦接至离子源室。容器还可包括出口，以密封预填充的离子源供料材料，出口还配置为与喷嘴总成啮合以在内腔与离子源室之间建立引流路径。容器可配置为抛弃式构件。 | ||
| 搜索关键词： | 提供 离子源 供料 材料 技术 | ||
【主权项】：
1、一种供应离子源供料材料的容器，所述容器包括：内腔，预填充有离子源供料材料；外主体，配置为可载入对应外罩内且可由对应外罩内移除，所述外罩经由喷嘴总成耦接至离子源室；以及出口，密封所述预填充的离子源供料材料，所述出口还配置为与所述喷嘴总成啮合，以在所述内腔与所述离子源室之间建立引流路径；其中所述容器配置成抛弃式构件。
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