[发明专利]高密度难熔金属和合金溅射靶无效

专利信息
申请号: 200880002255.4 申请日: 2008-01-15
公开(公告)号: CN101594955A 公开(公告)日: 2009-12-02
发明(设计)人: P·库马;C·B·伍德;G·罗扎克;S·A·米勒;G·泽曼;R·-C·R·吴 申请(专利权)人: H.C.施塔克公司
主分类号: B22F3/10 分类号: B22F3/10;B22F3/04
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 代理人: 韦 东;王 颖
地址: 美国马*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 发明涉及通过压制/烧结处理生产高密度难熔金属产品的方法。本发明还涉及生产溅射靶的方法以及由此生产的溅射靶。
搜索关键词: 高密度 金属 合金 溅射
【主权项】:
1.一种制备高密度难熔金属产品的方法,该方法包括:a)在约10,000psi至65,000psi的压力下冷等静压制难熔金属粉末,形成压制产品,所述难熔金属粉末是选自以下的粉末:i)钼粉末,ii)钨粉末,iii)钼-钨合金粉末,iv)钼合金粉末,其中合金金属不同于钨,和v)钨合金粉末,其中合金金属不同于钼;b)在以下温度条件下加热所述压制产品:以约20-120°F/小时的速率升高到约300-1000°F的第一温度,并在所述第一温度保持约1-38小时;c)在以下温度条件下继续加热所述压制产品:以约20-120°F/小时的速率从所述第一温度升高到约1500-2800°F的第二温度,并在所述第二温度保持约1-38小时;d)在以下温度条件下继续加热所述压制产品:以约20-120°F/小时的速率从所述第二温度升高到约3000-4000°F的第三温度,并在所述第三温度保持约1-38小时;和e)将所述压制产品冷却到室温。
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