[发明专利]照相模件制造方法及照相模件无效
| 申请号： | 200880003204.3 | 申请日： | 2008-01-09 |
| 公开（公告）号： | CN101601274A | 公开（公告）日： | 2009-12-09 |
| 发明（设计）人： | 藤井雄一;宫崎岳美;细江秀 | 申请（专利权）人： | 柯尼卡美能达精密光学株式会社 |
| 主分类号： | H04N5/225 | 分类号： | H04N5/225;G02B5/00;G02B7/02;H01L27/14;H04N5/238;H04N5/335 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 岳雪兰 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 提供一种照相模件制造方法及照相模件，其中，不使制造工序复杂化，能够提高照相模件的性能。通过在各镜头本体11的侧面和镜头支撑体12的侧面形成遮光层，能够不另行使用光圈和遮光部件等就使之持有规制入射光束透过面积的光圈功能和抑制杂散光进入的功能。 | ||
| 搜索关键词： | 照相 模件 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种照相模件制造方法，是准备影像传感晶片和镜头阵列，所述影像传感晶片是配置多个一面配有光电变换元件另一面配有外部连接用端子的影像传感芯片而构成，所述镜头阵列是配置多个与所述多个影像传感芯片对应的镜头而构成，在所述影像传感晶片的配有所述光电变换元件侧的面上贴合所述镜头阵列，然后分割成一个个照相模件，照相模件制造方法的特征在于，在被分割成一个个的所述多个镜头的各镜头侧面形成遮光层。
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