[发明专利]有源矩阵基板及其制造方法、以及平面显示装置无效
| 申请号： | 200880006200.0 | 申请日： | 2008-02-15 |
| 公开（公告）号： | CN101681926A | 公开（公告）日： | 2010-03-24 |
| 发明（设计）人： | 加藤丈佳 | 申请（专利权）人： | 日本瑞翁株式会社 |
| 主分类号： | H01L29/786 | 分类号： | H01L29/786;G09F9/30 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 张平元 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明的目的在于提供一种可以通过简单的操作进行制造、且具有优异的晶体管特性及高度可靠性的有源矩阵基板及其制造方法。为此，本发明涉及一种有源矩阵基板，该基板具有基体材料和在该基体材料上形成的具有无定形硅膜的薄膜晶体管，其中，在所述无定形硅膜上具有硅氧化物层，并且，在硅氧化物层上层压有有机保护膜。另外，本发明涉及一种制造上述有源矩阵基板的方法，其中，该制造方法具有下述步骤：(1)对形成于基体材料上的薄膜晶体管的无定形硅膜A的表面进行氧化，从而在无定形硅膜α上形成硅氧化物层的步骤；以及(2)在硅氧化物层上由辐射敏感性树脂组合物形成有机保护膜的步骤。 | ||
| 搜索关键词： | 有源 矩阵 及其 制造 方法 以及 平面 显示装置 | ||
【主权项】：
1.一种有源矩阵基板，该基板具有基体材料和形成在该基体材料上的具有无定形硅膜的薄膜晶体管，其中，在所述无定形硅膜上具有硅氧化物层，并且，在硅氧化物层上层压有有机保护膜。
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