[发明专利]控制方法、控制装置以及制造控制装置的方法有效
| 申请号： | 200880006346.5 | 申请日： | 2008-02-15 |
| 公开（公告）号： | CN101675708A | 公开（公告）日： | 2010-03-17 |
| 发明（设计）人： | T·扎纳;F·达姆斯;P·霍尔泽;S·格罗特希 | 申请（专利权）人： | 奥斯兰姆奥普托半导体有限责任公司 |
| 主分类号： | H05B33/08 | 分类号： | H05B33/08 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 卢 江;刘春元 |
| 地址： | 德国雷*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | 为了运行至少一个发射辐射的半导体器件(1)，产生脉冲形式的、在脉冲持续时间期间上升的工作电流(If)。为此在用于制造用于运行所述至少一个发射辐射的半导体器件的控制设备的方法中，确定热阻抗(Zth)的时间曲线，该热阻抗(Zth)对于所述至少一个发射辐射的半导体器件(1)来说是有代表性的。根据所确定的热阻(Zth)的时间曲线来确定要调节的工作电流(If)的曲线。此外，控制装置被如此构造，使得要调节的工作电流(If)的曲线分别在该脉冲持续时间期间被调节。 | ||
| 搜索关键词： | 控制 方法 装置 以及 制造 | ||
【主权项】：
1.控制方法，其中为了运行至少一个发射辐射的半导体器件(1)，产生脉冲形式的、在脉冲持续时间(PD)期间上升的工作电流(If)。
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