[发明专利]用于真空处理系统的压力控制有效
| 申请号： | 200880007490.0 | 申请日： | 2008-03-03 |
| 公开（公告）号： | CN101681175A | 公开（公告）日： | 2010-03-24 |
| 发明（设计）人： | D·张伯伦;D·J.·戈尔德曼;G·希尔 | 申请（专利权）人： | MKS仪器公司 |
| 主分类号： | G05D16/20 | 分类号： | G05D16/20 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人： | 王 英;刘炳胜 |
| 地址： | 美国马*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 一种压力控制系统，包括在压力传感器与压力控制器之间的数字通信网络。将所述数字通信网络配置为在所述压力传感器与所述压力控制器之间进行信号通信。将所述压力传感器配置为测量处理工具的真空室之内的压力。所述压力控制器响应于压力测量结果，所述压力测量结果由所述压力传感器测量并且经过所述数字通信网络发送到压力控制器，以控制所述真空室之内的压力，从而将所述真空室中的压力维持在从所述工具接收到的压力设定点。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 真空 处理 系统 压力 控制 | ||
【主权项】：
1、一种压力控制系统，包括：压力传感器，将其配置为测量处理工具中的真空室之内的压力；压力控制器，将其配置为控制所述真空室之内的压力；以及所述压力传感器与所述压力控制器之间的数字通信网络，将所述数字网络配置为在所述压力传感器与所述压力控制器之间对信号进行通信；其中，所述压力控制器响应于由所述压力传感器进行的且通过所述数字通信网络发送到所述压力控制器的压力测量结果，以控制所述真空室之内的压力，从而将所述真空室中的压力维持在从所述处理工具接收到的压力设定点处。
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