[发明专利]投影系统无效
申请号: | 200880007641.2 | 申请日: | 2008-03-07 |
公开(公告)号: | CN101627355A | 公开(公告)日: | 2010-01-13 |
发明(设计)人: | 近藤秀和;田川欣哉 | 申请(专利权)人: | Lunascape株式会社;株式会社策划设计工程 |
主分类号: | G06F3/041 | 分类号: | G06F3/041;G03B21/26;G09G5/00 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所 | 代理人: | 刘新宇;陈立航 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 一种投影系统,将保证用标记(3020)与导出用标记(3010)一起投影到投影屏幕上,允许噪声影像作为标记候选,自动生成多个暂定的二维射影变换式,使用保证用标记(3020)的位置从所生成的多个变换式中检测真正的变换式。 | ||
搜索关键词: | 投影 系统 | ||
【主权项】:
1.一种投影系统,通过投影仪将影像投影到投影屏幕上,通过受光器对由激光笔照射到上述投影屏幕上的激光指针的影像进行受光,通过二维射影变换式将受光画面上的激光指针的位置变换为上述投影屏幕上的坐标位置,并且通过上述投影仪将标记预先投影到上述投影屏幕上,使用由上述受光器受光的上述标记的位置与预先决定的在上述投影屏幕上的标记的位置来自动生成上述二维射影变换式,该投影系统的特征在于,具有:控制单元,其除了使上述投影仪投影上述标记以外,还使上述投影仪投影保证用标记;检测单元,其允许在上述标记的候选中包含噪声和上述保证用标记,检测上述受光画面上的上述标记的候选位置;变换式生成单元,其使用所检测出的该标记的候选中的规定个数的候选的位置以及在上述投影屏幕上预先决定的标记的位置,来生成暂定的二维射影变换式;位置变换单元,其使用所制作的该暂定的二维射影变换式,将通过上述变换式生成单元制作二维射影变换式时没有使用的上述标记的候选的位置变换为上述投影屏幕上的位置;以及判断单元,其通过判断在变换得到的该位置中是否存在与预先决定的上述保证用标记在投影屏幕上的位置一致的位置,来判断由上述变换式生成单元生成的暂定的二维射影变换式是否为使用了受光画面上的标记的位置的真正的二维射影变换式,其中,在由上述判断单元得到否定判断的情况下,直到得到肯定判断为止,将由上述变换式生成单元生成二维射影变换式时所使用的标记的候选设为不同的候选来通过上述变换式生成单元生成不同的暂定的二维射影变换式,将由上述判断单元得到肯定判断时的暂定的二维射影变换式作为真正的二维变换式,在上述激光指针的位置变换中使用。
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