[发明专利]蒸镀材料及利用该材料制得的光学薄膜有效
申请号: | 200880007708.2 | 申请日: | 2008-03-27 |
公开(公告)号: | CN101636518A | 公开(公告)日: | 2010-01-27 |
发明(设计)人: | 高桥修平;小坂金雄;冈田均 | 申请(专利权)人: | 富士钛工业株式会社 |
主分类号: | C23C14/24 | 分类号: | C23C14/24;G02B1/11 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 李 帆 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供一种包含铌及镧的二元系氧化物、或者除该二元系氧化物外还包含金属铌及/或金属镧的蒸镀材料、及由该蒸镀材料得到的光学薄膜。其特征在于,该蒸镀材料中的铌和镧的摩尔比为25∶75~90∶10。 | ||
搜索关键词: | 材料 利用 光学薄膜 | ||
【主权项】:
1、蒸镀材料,其特征在于,包含铌及镧的二元系氧化物,该铌和镧的摩尔比为25∶75~90∶10。
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