[发明专利]形成黑矩阵的方法和系统有效
| 申请号： | 200880007709.7 | 申请日： | 2008-03-07 |
| 公开（公告）号： | CN101632037A | 公开（公告）日： | 2010-01-20 |
| 发明（设计）人： | 成知玹;李承宪;李惠贞;李顺烈;田景秀;姜杨求 | 申请（专利权）人： | LG化学株式会社 |
| 主分类号： | G02F1/1335 | 分类号： | G02F1/1335 |
| 代理公司： | 北京金信立方知识产权代理有限公司 | 代理人： | 朱 梅;鲁云博 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种形成黑矩阵的方法，该方法包括以下步骤：(S1)将黑矩阵形成墨水涂覆到具有凹版图形的弹性模子上；(S2)将涂覆到所述弹性模子的浮雕部上的墨水移除；(S3)将保留在所述弹性模子的凹雕部中的墨水转录到基板上；以及(S4)将转录到基板上的墨水固化并干燥。所述步骤(S2)可以下述方式进行：将具有表面能为<墨水的表面能-2erg/cm2>～<墨水的表面能+8erg/cm2>的墨水移除单元的表面紧密地附着到所述弹性模子的浮雕部上，然后从该浮雕部移开墨水移除单元。该方法通过使用凹版印刷法而能够以简单和经济的方式形成黑矩阵。 | ||
| 搜索关键词： | 形成 矩阵 方法 系统 | ||
【主权项】：
1、一种形成黑矩阵的方法，该方法包括以下步骤：(S1)将黑矩阵形成墨水涂覆到具有凹版图形的弹性模子上；(S2)将涂覆到所述弹性模子的浮雕部上的墨水移除；(S3)将保留在所述弹性模子的凹雕部中的墨水转录到基板上；以及(S4)将转录到基板上的墨水固化并干燥。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于LG化学株式会社，未经LG化学株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200880007709.7/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：脂肪族聚酯系片和由其形成的成型体
- 下一篇：可再分散的核壳聚合物及其制备方法
