[发明专利]含有氨基甲酸乙酯基团的基于芴的聚合物、其制备方法和包含该聚合物的负型光敏树脂组合物有效
| 申请号： | 200880008079.5 | 申请日： | 2008-09-26 |
| 公开（公告）号： | CN101631815A | 公开（公告）日： | 2010-01-20 |
| 发明（设计）人： | 金韩修;金星炫;崔东昌;崔庚铢;池昊灿;林敏映;车槿英;许闰姬;刘志钦;金善花 | 申请（专利权）人： | LG化学株式会社 |
| 主分类号： | C08G61/12 | 分类号： | C08G61/12 |
| 代理公司： | 北京金信立方知识产权代理有限公司 | 代理人： | 朱 梅;黄丽娟 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明提供了一种新型的含有氨基甲酸乙酯键的基于芴的聚合物和制备该基于芴的聚合物的方法。根据该方法，用二异氰酸酯代替酸二酐与二醇化合物缩合反应，然后使酸酐与该反应混合物反应以将所需的酸基引入到最终聚合物中。本发明进一步提供了一种包含所述基于芴的聚合物作为粘合剂树脂的负型光敏树脂组合物。尽管所述基于芴的聚合物的分子量低，但是由于酸基的存在，该组合物显示出提高的耐化学品性、良好的显影容限和高光敏性。 | ||
| 搜索关键词： | 含有 氨基 甲酸 基团 基于 聚合物 制备 方法 包含 光敏 树脂 组合 | ||
【主权项】：
1、一种含有氨基甲酸乙酯键的基于芴的聚合物，其由通式1表示：![]()
其中，R1为源于二异氰酸酯的二价烃基，R2为源于酸酐的酸的组成基团，m为0～3，且n为3～8。
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