[发明专利]具有改善的处理能力的新颖等离子体系统有效
| 申请号： | 200880008256.X | 申请日： | 2008-03-11 |
| 公开（公告）号： | CN101636813A | 公开（公告）日： | 2010-01-27 |
| 发明（设计）人： | 肯尼思·B·K·蒂奥;纳林·L·鲁佩辛格 | 申请（专利权）人： | 艾克斯特朗股份公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 李芳华 |
| 地址： | 德国黑*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | 一种用于基底处理的等离子体系统包括：导电电极(b、bb)，在其上能够保持一个或多个基底(d)；第二导电电极(a)，与保持电极的基底相邻但分开地放置在远离保持基底的一侧的一侧上；和气体混合物分发淋浴头(e)，远离导电电极地放置在保持基底的一侧，以便以均匀的方式来供应用于处理基底所需要的气体混合物(f)；使得在保持基底的导电电极与第二导电电极之间启动并建立的等离子体配置包封保持基底的电极，远离通过淋浴头中的开口(ee)来激活并分发气体混合物的淋浴头，从而提供处理的均匀性、产出和可靠性的优点。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 改善 处理 能力 新颖 等离子体 系统 | ||
【主权项】：
1.一种用于基底处理的等离子体系统，包括：导电电极，在其上能够保持一个或多个基底；第二导电电极，与保持电极的基底相邻但分开地放置在远离保持基底的一侧的一侧上；和气体混合物分发淋浴头，远离导电电极地放置在保持基底的一侧，以便以均匀的方式来供应用于处理基底所需要的气体混合物；使得在保持基底的导电电极与第二导电电极之间启动并建立的等离子体配置包封保持基底的电极，远离通过淋浴头中的开口来激活并分发气体混合物的淋浴头，从而提供处理的均匀性、产出和可靠性的优点。
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