[发明专利]显影液以及制备微细加工材料的方法无效
| 申请号： | 200880008761.4 | 申请日： | 2008-01-17 |
| 公开（公告）号： | CN101641647A | 公开（公告）日： | 2010-02-03 |
| 发明（设计）人： | 齐藤则之;安达则夫 | 申请（专利权）人： | 索尼株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/32 | 分类号： | G03F7/32;G11B7/26 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 封新琴 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明公开了一种显影液，其含有：碱性水溶液；和硅酸根离子、碳酸根离子、硼酸根离子和磷酸根离子中的至少一种阴离子；和铵离子、有机铵离子和碱金属离子中的至少一种阳离子。所述碱性水溶液可以是四烃基氢氧化铵的水溶液。 | ||
| 搜索关键词： | 显影液 以及 制备 微细 加工 材料 方法 | ||
【主权项】：
1.显影液，其含有：碱性水溶液；和硅酸根离子、碳酸根离子、硼酸根离子和磷酸根离子中的至少一种阴离子。
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