[发明专利]除去一部分平面材料层的方法和多层结构有效

专利信息
申请号: 200880008767.1 申请日: 2008-01-30
公开(公告)号: CN101647325A 公开(公告)日: 2010-02-10
发明(设计)人: 格拉尔德·魏丁格尔;马库斯·莱特杰布;约翰内斯·施塔尔;贡特尔·魏克斯尔贝格尔;安德烈亚斯·日卢奇 申请(专利权)人: AT&S奥地利科技及系统技术股份公司
主分类号: H05K1/02 分类号: H05K1/02;H05K3/46
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 代理人: 顾晋伟;张耀宏
地址: 奥地利莱奥*** 国省代码: 奥地利;AT
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摘要: 发明涉及一种用于除去基本平坦的材料层(2)的一部分的方法,材料层(2)在连接步骤中连接到至少另一个基本平坦的材料层(9)上。根据本发明,在随后要除去的部分(11)的区域中提供使材料层(2,9)不直接互连的区域,所述第一区域通过施加防止要互连的材料层彼此粘附的材料(8)来提供。本发明还涉及多层结构和该方法的用途,还涉及尤其用于制造多层印刷电路板的多层结构。
搜索关键词: 除去 一部分 平面 材料 方法 多层 结构
【主权项】:
1.一种用于除去基本平坦或平面的材料层(2)的子部分或一部分的方法,所述材料层(2)在结合程序中与至少另一个基本平坦或平面的材料层(9)结合,所述方法的特征在于在随后除去子部分(11,25)的区域中,通过施加防止要结合的材料层粘附的材料(8,21)提供保持材料层(2,9;20,23)之间不直接结合的区域。
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