[发明专利]制备具有形成亚毫米级格栅的亚毫米级开口的掩模的方法、以及亚毫米级格栅有效
申请号: | 200880009031.6 | 申请日: | 2008-03-21 |
公开(公告)号: | CN101636361A | 公开(公告)日: | 2010-01-27 |
发明(设计)人: | E·瓦朗坦;B·尼昂;A·于尼亚尔;G·扎格杜恩;E·鲁瓦耶 | 申请(专利权)人: | 法国圣-戈班玻璃公司 |
主分类号: | C03C17/00 | 分类号: | C03C17/00;C03C17/06;C03C17/22;H01L51/52;H01L51/56 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人: | 程大军 |
地址: | 法国*** | 国省代码: | 法国;FR |
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摘要: | 在基底、尤其是具有玻璃功能的基底的表面部分上通过沉积和干燥掩模层来制造具有亚毫米开口的掩模的方法,其特征在于:从稳定并分散在溶剂中的胶体颗粒的溶液沉积出掩模层;以及对掩模层进行干燥,直至得到具有形成掩模的基本上直边间隙的二维网络,该网络在至少一个方向上具有无规则的间隙网眼。通过该方法得到的亚毫米级格栅。 | ||
搜索关键词: | 制备 具有 形成 毫米 格栅 开口 方法 以及 | ||
【主权项】:
1.在基底、尤其是具有玻璃功能的基底的表面部分上通过沉积和干燥掩模层,来制造具有亚毫米开口的掩模的方法,其特征在于,-从稳定并分散在溶剂中的胶体颗粒的溶液沉积出掩模层;以及-对掩模层进行干燥,直至得到具有形成掩模的基本上直边间隙的二维网络,该网络在至少一个方向上具有无规则的间隙网眼。
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