[发明专利]旋转磁铁溅射装置

摘要

在旋转磁铁溅射装置中，为了减少因靶的消耗而引起靶表面发生变化，导致成膜率经时变化的情况，对靶的消耗变位量进行测定，根据测定结果，调整旋转磁铁组与靶之间的距离，从而长时间实现均匀的成膜率。作为测定靶的消耗变位量的机构，可以使用超声波传感器，也可以使用激光发送接收装置。

主权项

1.一种旋转磁铁溅射装置，具有：被成膜基板保持体、与被成膜基板对置设置的靶、和被设置在靶的与被处理基板相反侧的磁铁，通过由该磁铁在靶表面形成磁场，将等离子封闭在靶表面，其特征在于，所述磁铁包含：多个板磁铁被设在柱状旋转轴上的旋转磁铁组；和在旋转磁铁组的周边与靶面平行设置、且在与靶面垂直的方向磁化的固定外周板磁铁，通过使所述旋转磁铁组随着所述柱状旋转轴一同旋转，所述靶表面的磁场模式随着时间变动，该旋转磁铁溅射装置具有：测定所述靶的消耗量、即靶的消耗变位量的机构，具备通过使所述柱状旋转轴、所述旋转磁铁组、以及所述固定外周板磁铁从靶离开与该消耗变位量相等的距离，始终使靶表面与所述柱状旋转轴、所述旋转磁铁组、以及所述固定外周板磁铁的距离保持相等的功能。