[发明专利]形成抗蚀剂下层膜的组合物

摘要

本发明的课题是提供一种含有富勒烯衍生物的形成抗蚀剂下层膜的组合物，该组合物容易涂布在基板上，且得到的抗蚀剂下层膜干蚀刻特性优异。作为本发明的解决课题的方法是，例如，通过使用含有下述式(3)所示的富勒烯衍生物和有机溶剂的形成抗蚀剂下层膜的组合物，来解决上述课题。(式中，R⁴表示选自氢原子、可以具有取代基的烷基、可以具有取代基的芳基和可以具有取代基的杂环基中的一种基团，R⁵表示可以具有取代基的烷基或可以具有取代基的芳基。)

主权项

1.一种形成抗蚀剂下层膜的组合物，含有相对于1分子富勒烯加成有1个以上修饰基团的下述式(1)所示的富勒烯衍生物和/或下述式(2)所示的富勒烯衍生物、以及有机溶剂，上述式中，R¹、R²各自独立，表示选自可以具有取代基的烷基、酯基即-COOR³、醛基即-CHO和可以具有取代基的芳基中的一种基团，n表示1以上的整数，所述式-COOR³中，R³表示有机基团，上述式中，R¹、R²和n如上述式(1)所定义。