[发明专利]用于照射图案形成装置的照射系统和制造照射系统的方法无效
| 申请号： | 200880010265.2 | 申请日： | 2008-04-03 |
| 公开（公告）号： | CN101681115A | 公开（公告）日： | 2010-03-24 |
| 发明（设计）人： | J·B·P·范斯库特;H·J·M·梅杰尔 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 王新华 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 一种照射系统(IL)，包括外壳(2)和位于外壳(2)内的光学系统。光学系统包括至少一个光学元件(4、6)。光学元件被构造和布置以用从中间焦点(IF)发散的辐射束(B)照射图案形成装置(MA)。中间焦点(IF)位于与所述照射系统(IL)的底部(10)大致相同高度的水平的位置处或在所述照射系统(IL)的底部(10)下方的位置处。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 照射 图案 形成 装置 系统 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种照射系统，包括：外壳；和光学系统，该光学系统设置在所述外壳内，所述光学系统包括至少一个光学元件，所述光学系统被构造和布置以用从中间焦点发散的辐射束照射图案形成装置，所述中间焦点位于与所述照射系统的底部大致相同的高度水平的位置处或位于所述照射系统的底部下方的位置处。
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