[发明专利]溅射设备和薄膜形成方法有效
| 申请号： | 200880010317.6 | 申请日： | 2008-09-30 |
| 公开（公告）号： | CN101778961A | 公开（公告）日： | 2010-07-14 |
| 发明（设计）人： | 千叶俊伸;吉冈胜也 | 申请（专利权）人： | 佳能安内华股份公司 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所 11277 | 代理人： | 刘新宇;张会华 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供即使对于较大的基板也能获得具有均一性的品质优异的膜并且抑制粒子和结瘤的产生的溅射设备和薄膜形成方法。本发明的溅射设备包括：真空容器(9)；基板保持件(7)，其用于支撑基板(6)；阴极机构，其被定位成与基板(6)相对，以及第二气体导入机构，其用于将气体导入到真空容器(9)中。阴极机构具有彼此之间形成有间隙的多个靶材(1a)至(1c)和彼此之间形成有间隙的多个垫板(2a)至(2c)。多个靶材两两之间的间隙(14)比多个垫板两两之间的间隙(15)小。另外，间隙(14)与间隙(15)的至少一部分重叠。第二气体导入机构经由间隙(15)和间隙(14)导入气体。 | ||
| 搜索关键词： | 溅射 设备 薄膜 形成 方法 | ||
【主权项】：
一种溅射设备，其包括：真空容器；基板保持件，其位于所述真空容器内以支撑基板；多个垫板，其被配置成与所述基板保持件相对以支撑多个靶材；以及气体导入机构，其用于将气体导入到所述真空容器中；其中，所述多个垫板被配置成彼此之间形成有第一间隙，所述气体导入机构经由所述第一间隙导入气体。
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