[发明专利]厚膜光刻胶清洗剂无效
| 申请号： | 200880011333.7 | 申请日： | 2008-04-03 |
| 公开（公告）号： | CN101652718A | 公开（公告）日： | 2010-02-17 |
| 发明（设计）人： | 史永涛;彭洪修;刘兵 | 申请（专利权）人： | 安集微电子（上海）有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/42 | 分类号： | G03F7/42;H01L21/02;C23G1/06;C11D1/83 |
| 代理公司： | 上海翰鸿律师事务所 | 代理人： | 李佳铭 |
| 地址： | 中国上海市浦东新区张江高科技园*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 一种厚膜光刻胶清洗剂，其含有：二甲基亚砜、氢氧化钾、苯甲醇和/或其衍生物、季铵氢氧化物和烷基醇胺。该清洗剂可以除去金属、金属合金和电介质基材上的100μm以上厚度的厚膜光刻胶(光阻)。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 洗剂 | ||
【主权项】：
PCT国内申请，权利要求书已公开。
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