[发明专利]含有经巯基修饰的聚硅氧烷的防反射被膜形成用涂布液有效
| 申请号： | 200880011429.3 | 申请日： | 2008-04-09 |
| 公开（公告）号： | CN101652442A | 公开（公告）日： | 2010-02-17 |
| 发明（设计）人： | 岛野亮介;元山贤一;根木隆之 | 申请（专利权）人： | 日产化学工业株式会社 |
| 主分类号： | C09D183/08 | 分类号： | C09D183/08;C09D5/00;G02B1/11 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人： | 范 征;胡 烨 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种对未经表面处理的基材也能很好地密合而显示出优良的耐擦伤性且具有低折射率、低雾度、高透射率的防反射被膜形成用涂布液，该涂布液的制造方法，用该涂布液得到的固化膜及防反射膜，以及具有该固化膜的防反射基材。该防反射被膜形成用涂布液的特征在于，含有聚硅氧烷(A)，所述聚硅氧烷(A)是具有巯基的有机基团通过硅氧烷键与聚硅氧烷(a)的主链结合而成的聚硅氧烷。 | ||
| 搜索关键词： | 含有 巯基 修饰 聚硅氧烷 反射 形成 用涂布液 | ||
【主权项】：
1.一种防反射被膜形成用涂布液，其特征在于，含有聚硅氧烷(A)，所述聚硅氧烷(A)是具有巯基的有机基团通过硅氧烷键与聚硅氧烷(a)的主链结合而成的聚硅氧烷。
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C09 染料；涂料；抛光剂；天然树脂；黏合剂；其他类目不包含的组合物；其他类目不包含的材料的应用
C09D 涂料组合物，例如色漆、清漆或天然漆；填充浆料；化学涂料或油墨的去除剂；油墨；改正液；木材着色剂；用于着色或印刷的浆料或固体；原料为此的应用
C09D183-00 基于由只在主链中形成含硅的、有或没有硫、氮、氧或碳键反应得到的高分子化合物的涂料组合物；基于此种聚合物衍生物的涂料组合物
C09D183-02 .聚硅酸酯
C09D183-04 .聚硅氧烷
C09D183-10 .含有聚硅氧烷链区的嵌段或接枝共聚物
C09D183-14 .其中至少两个，但不是所有的硅原子与氧以外的原子连接
C09D183-16 .其中所有的硅原子与氧以外的原子连接
C09D 涂料组合物，例如色漆、清漆或天然漆；填充浆料；化学涂料或油墨的去除剂；油墨；改正液；木材着色剂；用于着色或印刷的浆料或固体；原料为此的应用
C09D183-00 基于由只在主链中形成含硅的、有或没有硫、氮、氧或碳键反应得到的高分子化合物的涂料组合物；基于此种聚合物衍生物的涂料组合物
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C09D183-04 .聚硅氧烷
C09D183-10 .含有聚硅氧烷链区的嵌段或接枝共聚物
C09D183-14 .其中至少两个，但不是所有的硅原子与氧以外的原子连接
C09D183-16 .其中所有的硅原子与氧以外的原子连接
