[发明专利]光脉冲成形器、光脉冲光源、超连续光发生装置及超连续光发生方法有效
| 申请号： | 200880011539.X | 申请日： | 2008-03-28 |
| 公开（公告）号： | CN101652710A | 公开（公告）日： | 2010-02-17 |
| 发明（设计）人： | 井上崇 | 申请（专利权）人： | 古河电气工业株式会社 |
| 主分类号： | G02F1/35 | 分类号： | G02F1/35;G02B6/02;H04B10/02;H04B10/28 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人： | 黄纶伟 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供光脉冲成形器、光脉冲光源、超连续光发生装置及超连续光发生方法，课题是在CPF型光脉冲成形器中，通过高度保持输出脉冲的品质，同时大幅度提高CPF每一段的压缩效率，而减少段数；以及通过获得时间波形和频率波形都为高斯型的输出脉冲，可提高复用度。通过使用正常色散HNLF替代构成现有CPF的零色散HNLF，能够攻克上述课题。另外，通过提高压缩效率，可减少光纤的热粘接个数，降低CPF的传输损耗。 | ||
| 搜索关键词： | 脉冲 成形 光源 连续 发生 装置 方法 | ||
【主权项】：
1、一种光脉冲成形器，交替连接具有正常色散效应的非线性介质和异常色散介质而构成，其中，按照所述非线性介质的非线性效应和色散效应的大小同程度产生的方式确定所述非线性介质的色散值和有效长度。
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