[发明专利]用于生成RF场的方法和RF发射器布置有效
| 申请号： | 200880014676.9 | 申请日： | 2008-04-24 |
| 公开（公告）号： | CN101675353A | 公开（公告）日： | 2010-03-17 |
| 发明（设计）人： | I·格雷斯林;P·博尔纳特;P·韦尔尼科尔;U·卡切尔 | 申请（专利权）人： | 皇家飞利浦电子股份有限公司 |
| 主分类号： | G01R33/34 | 分类号： | G01R33/34;G01R33/3415;G01R33/561 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人： | 王 英;刘炳胜 |
| 地址： | 荷兰艾*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 公开了一种多通道RF发射器布置，其包括多个像RF天线、天线元件、线圈或者线圈元件之类的RF发射器元件(e)，用于生成RF场，尤其在磁共振成像(MRI)系统中使用以激发核磁共振(NMR)，以及公开了用于生成这样的RF场的方法。RF发射器元件(e)至少沿着MRI系统的主磁场方向(或者z向或者纵向)被分割为多个分段(s1，s2，s3，…)。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 生成 rf 方法 发射器 布置 | ||
【主权项】：
1、一种RF发射器布置，包括多个RF发射器元件(e)，用于生成RF场以激发MRI系统中的核磁共振，其中，至少沿着所述MRI系统的主磁场方向(或者所述z方向或者纵向)将所述RF发射器元件(e)分割为多个分段(s1，s2，s3，…)。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于皇家飞利浦电子股份有限公司，未经皇家飞利浦电子股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200880014676.9/，转载请声明来源钻瓜专利网。
