[发明专利]金属氧化物薄膜的制造方法及制造装置无效
申请号: | 200880015431.8 | 申请日: | 2008-05-16 |
公开(公告)号: | CN101680088A | 公开(公告)日: | 2010-03-24 |
发明(设计)人: | 安井宽治;西山洋;筑地正俊;井上泰宣;高田雅介 | 申请(专利权)人: | 国立大学法人长冈技术科学大学;东京毅力科创株式会社 |
主分类号: | C23C16/40 | 分类号: | C23C16/40;C01G9/02;H01L21/365 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 | 代理人: | 蒋 亭;苗 堃 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明通过利用伴随催化反应的化学能,在无需电能的情况下,以低成本在基板上高效地形成以氧化锌为代表的金属氧化物薄膜的技术。向催化反应装置内导入H2气体和O2气体、或者导入H2O2气体,并使其与催化剂接触而得到H2O气体,使所述H2O气体从催化反应装置喷出而与金属化合物气体反应,从而使金属氧化物薄膜沉积在基板上,由此制造金属氧化物薄膜。 | ||
搜索关键词: | 金属 氧化物 薄膜 制造 方法 装置 | ||
【主权项】:
1、一种金属氧化物薄膜的制造方法,其特征在于,向催化反应装置内导入H2气体和O2气体、或者导入H2O2气体,并使其与催化剂接触而得到H2O气体,使所述H2O气体从催化反应装置喷出而与金属化合物气体反应,从而使金属氧化物薄膜沉积在基板上。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
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