[发明专利]用于太阳能电池制造的小接触的阵列有效
| 申请号： | 200880016124.1 | 申请日： | 2008-05-12 |
| 公开（公告）号： | CN101681902A | 公开（公告）日： | 2010-03-24 |
| 发明（设计）人： | P·J·卡曾斯;M·J·卡德兹诺维克 | 申请（专利权）人： | 太阳能公司 |
| 主分类号： | H01L25/00 | 分类号： | H01L25/00 |
| 代理公司： | 北京泛华伟业知识产权代理有限公司 | 代理人： | 王 勇;姜 华 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明采用印刷的接触掩模(400)来制造太阳能电池。该接触掩模(400)可以包括通过喷墨印刷形成的点(306)。该点(306)可以形成在电介质层(例如聚酰亚胺)之间的开口中。重叠点(306)的交叉可以形成限定接触区域的空隙(321)。空隙(321)的间隔可以取决于分送点(306)的喷嘴的排列。可采用点(306)作为接触掩模(400)刻蚀下面的电介质层，用以形成通过该下面的电介质层的接触区域。在晶片上可以形成金属接触指用以形成通过接触区域到对应的扩散区域的电连接。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 太阳能电池 制造 接触 阵列 | ||
【主权项】：
1.一种太阳能电池的制造方法，该方法包括：在要被处理到太阳能电池中的晶片上形成第一电介质层；在该第一电介质层上形成多个第二电介质层；以及至少在该第二电介质层之间的开口中喷墨印刷多个点用以通过该点的交叉形成多个空隙，该空隙的间隔取决于分送该点的喷墨印刷机喷嘴的排列。
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