[发明专利]真空处理设备和真空处理方法有效
| 申请号： | 200880017482.4 | 申请日： | 2008-04-22 |
| 公开（公告）号： | CN101743338A | 公开（公告）日： | 2010-06-16 |
| 发明（设计）人： | J·拉姆;B·威德里格;S·卡塞曼;M·D·皮门塔;O·马斯勒;B·汉塞尔曼 | 申请（专利权）人： | 奥尔利康贸易股份公司（特吕巴赫） |
| 主分类号： | C23C14/06 | 分类号： | C23C14/06;C23C14/22;C23C14/02;C23C30/00;C23C28/00;C23C16/26 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 赵辛 |
| 地址： | 瑞士特*** | 国省代码： | 瑞士;CH |
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| 摘要： | 本发明涉及真空处理设备和真空处理方法，用于执行等离子体法，在真空室(1)中进行处理，真空室内设有用于产生低压弧光放电(15)(NVBE)的、包括阴极(10)和可通过电弧发生器与阴极电连接的阳极(13)的装置、可与偏压发生器(16)电连接且用于容放和移动工件(2)的工件支架(7)、以及至少一个用于惰性气体和/或反应气体的供应管路(8)，其中，阳极表面的至少一部分由石墨制成并且在高温下工作。 | ||
| 搜索关键词： | 真空 处理 设备 方法 | ||
【主权项】：
一种用于执行等离子体法的真空处理设备，其中处理设备包括至少一个真空室，真空室中设有用于产生低压弧光放电(NVBE)的、包括阴极和可通过电弧发生器与阴极电连接的阳极的装置、可与偏压发生器电连接且容放和移动工件的工件支架、以及至少一个用于惰性气体和/或反应气体的供应管路，其特征是，阳极表面的至少一部分由石墨制成。
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