[发明专利]具有搭桥晶粒结构的多晶硅薄膜晶体管有效

专利信息
申请号: 200880018195.5 申请日: 2008-02-04
公开(公告)号: CN101681930A 公开(公告)日: 2010-03-24
发明(设计)人: 郭海成;王文;孟志国;赵淑云 申请(专利权)人: 香港科技大学
主分类号: H01L29/786 分类号: H01L29/786;H01L21/38
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 李 娜;王忠忠
地址: 中国香港*** 国省代码: 中国香港;81
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 一种低温多晶硅器件和使其具有优异性能的制造技术。采用我们称为搭桥晶粒结构(BG)的掺杂多晶硅线,本征或轻掺杂的沟道被分成多个区域。覆盖包括所述掺杂的线的整个有源沟道的单个栅仍旧被用来控制电流。将该BG多晶硅用作有源层并且确保所述TFT的设计使得电流垂直于所述晶粒的平行线流动,晶界影响可以减小。与常规低温多晶硅TFT相比,所述BG多晶硅TFT的可靠性、均匀性和电性能大大改善。
搜索关键词: 具有 搭桥 晶粒 结构 多晶 薄膜晶体管
【主权项】:
1.一种晶体管,包括:多晶半导体材料的沟道层;通过所述沟道层电连接的第一和第二源/漏区;与所述沟道层电相互作用由此控制所述第一和第二源/漏区之间的传导的控制端;以及在所述沟道层之上和之中的多个横穿导电桥。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于香港科技大学,未经香港科技大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200880018195.5/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top