[发明专利]叠层结构的图像传感器及其制造方法无效

专利信息
申请号: 200880019179.8 申请日: 2008-06-09
公开(公告)号: CN101707898A 公开(公告)日: 2010-05-12
发明(设计)人: 李炳洙 申请(专利权)人: (株)赛丽康
主分类号: H01L27/14 分类号: H01L27/14
代理公司: 北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司 11204 代理人: 余朦;王艳春
地址: 韩国*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要: 提供了叠层图像传感器。具体地,提供了在形成外围电路的晶片上部上包括具有光电导薄膜的光敏元件部分的叠层图像传感器,并提供了制造这种叠层图像传感器的方法。在根据本发明的叠层图像传感器中,由于形成电路的晶片和光敏元件部分以叠层结构形成,因此图像传感器的整体尺寸可被减小,并且不会产生由入射光被相邻像素吸收引起的光串扰。此外,由于使用具有高的光吸收度的光电导元件,因此可获得高的光电转换效率。此外,在根据本发明制造叠层图像传感器的方法中,由于上部的光敏元件可通过简单的低温工艺形成,因此可降低生产成本。
搜索关键词: 结构 图像传感器 及其 制造 方法
【主权项】:
一种叠层图像传感器,包括:晶片,在所述晶片中外围电路形成于半导体衬底的上部;以及光敏元件部分,形成于所述晶片的上部,其中,所述光敏元件部分具有光电导薄膜。
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