[发明专利]用于制造PVD涂层的方法有效
| 申请号： | 200880019292.6 | 申请日： | 2008-05-28 |
| 公开（公告）号： | CN101802247A | 公开（公告）日： | 2010-08-11 |
| 发明（设计）人： | 埃里克·沃林;乌尔夫·赫尔默松 | 申请（专利权）人： | 山特维克知识产权股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/08 | 分类号： | C23C14/08 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人： | 郭国清;樊卫民 |
| 地址： | 瑞典桑*** | 国省代码： | 瑞典;SE |
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| 摘要： | 本发明涉及制造金属氧化物、氮化物或碳化物或其混合物的涂层的方法，其中运行高功率脉冲磁控溅射，HIPIMS，在一个或多个靶(3)上放电，在高于200Wcm-2的峰值脉冲功率下，在氩气和反应性气体混合物(5，6)中，其中改进了沉积速率并且消除了对反应性气体分压反馈系统的需要。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 制造 pvd 涂层 方法 | ||
【主权项】：
用于沉积晶体金属氧化物、氮化物或碳化物或其混合物的涂层的方法，其特征在于运行高功率脉冲磁控溅射，HIPIMS，在一个或多个靶上放电，在氩气和反应性气体的混合物中，在高于200Wcm-2的峰值脉冲功率、高至100μs的脉冲长度以及自100Hz的重复频率下。
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