[发明专利]具有减少的反向电流的结型二极管有效
申请号: | 200880020493.8 | 申请日: | 2008-06-18 |
公开(公告)号: | CN101720510A | 公开(公告)日: | 2010-06-02 |
发明(设计)人: | S·B·赫纳 | 申请(专利权)人: | 桑迪士克3D公司 |
主分类号: | H01L29/861 | 分类号: | H01L29/861;H01L21/329;H01L21/20 |
代理公司: | 北京纪凯知识产权代理有限公司 11245 | 代理人: | 赵蓉民 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 公开了对硅-锗合金形成的二极管进行退火的方法,该方法使泄漏电流最小化。所述方法包括下述步骤:形成硅-锗合金的半导体柱;在第一温度加热所述柱至少30分钟,然后在高于所述合金的第一温度的第二温度下加热所述柱长达120秒钟。本发明进一步包括多个p-i-n二极管的单片三维存储器阵列,所述p-i-n二极管由硅-锗合金形成,并且已经经受两阶段加热工艺。 | ||
搜索关键词: | 具有 减少 反向 电流 二极管 | ||
【主权项】:
一种形成结型二极管的方法,所述方法包括:a)形成半导体柱,所述柱包含硅和锗的非晶合金;b)在第一温度下加热所述柱至少30分钟;和c)在第二温度下加热所述柱大约120秒或更少,其中所述第二温度高于所述第一温度。
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