[发明专利]照明光学系统、曝光装置以及元件制造方法有效
| 申请号： | 200880020867.6 | 申请日： | 2008-09-12 |
| 公开（公告）号： | CN101681123A | 公开（公告）日： | 2010-03-24 |
| 发明（设计）人： | 田中裕久 | 申请（专利权）人： | 株式会社尼康 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 寿 宁 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明是有关一种照明光学系统，为利用由光源(1)所供给的照明光而对被照射面(M)进行照明的照明光学系统，包括空间光调变器(S1)及扩散器(4)。空间光调变器(S1)配置在照明光学系统的光路内，并在照明光学系统的光瞳位置或与光瞳位置光学共轭的位置处形成所需的光强度分布。扩散器(4)设置在空间光调变器(S1)的照明光的入射侧，并使入射空间光调变器(S1)的照明光进行扩散。 | ||
| 搜索关键词： | 照明 光学系统 曝光 装置 以及 元件 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种照明光学系统，为利用由光源所供给的照明光而对被照射面进行照明的照明光学系统，其特征在于包括：空间光调变器，配置在前述照明光学系统的光路内，并在前述照明光学系统的光瞳位置或与该光瞳位置光学共轭的位置处形成所需的光强度分布；以及扩散器，设置在前述空间光调变器的前述照明光的入射侧，并使入射前述空间光调变器的前述照明光进行扩散。
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