[发明专利]用于输送低温流体的系统和方法有效

专利信息
申请号: 200880021033.7 申请日: 2005-07-08
公开(公告)号: CN101670557A 公开(公告)日: 2010-03-24
发明(设计)人: 霍华德·R·休姆;罗纳德·R·沃耐克;加里·L·帕默;莱斯利·J·费克特 申请(专利权)人: 尼特西绅有限公司
主分类号: B24C5/00 分类号: B24C5/00;B24C5/04;B24C11/00;B05B7/14
代理公司: 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 代理人: 柳春雷;南 霆
地址: 美国爱*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 发明公开了用于输送低温流体的系统和方法。其中,一种喷嘴组件包括:混合室;高压超临界态氮供应体,其连接至所述混合室并可操作以将高压超临界态氮输送至所述混合室中;研磨材料供应体,其连接至所述混合室并可操作以将研磨材料输送至所述混合室中;和喷嘴,其连接至所述混合室并可操作以从所述混合室向目标引导由所述高压超临界态氮和所述研磨材料的混合物组成的射流,所述喷嘴的尺寸使得在所述射流撞击所述目标之前所述射流不会损失连贯性。
搜索关键词: 用于 输送 低温 流体 系统 方法
【主权项】:
1.一种喷嘴组件,包括:混合室;高压超临界态氮供应体,其连接至所述混合室并可操作以将高压超临界态氮输送至所述混合室中;研磨材料供应体,其连接至所述混合室并可操作以将研磨材料输送至所述混合室中;和喷嘴,其连接至所述混合室并可操作以从所述混合室向目标引导由所述高压超临界态氮和所述研磨材料的混合物组成的射流,所述喷嘴的尺寸使得在所述射流撞击所述目标之前所述射流不会损失连贯性。
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