[发明专利]分离膜复合体和分离膜复合体的制造方法有效
申请号: | 200880021720.9 | 申请日: | 2008-06-27 |
公开(公告)号: | CN101687149A | 公开(公告)日: | 2010-03-31 |
发明(设计)人: | 市川明昌;野中久义;富田俊弘 | 申请(专利权)人: | 日本碍子株式会社 |
主分类号: | B01D69/12 | 分类号: | B01D69/12;B01D69/10;B01D71/02 |
代理公司: | 北京银龙知识产权代理有限公司 | 代理人: | 钟 晶 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供一种分离膜复合体和分离膜复合体的制造方法。在多孔质体(61)(表面层(64))上直接形成碳膜(66),且中间层(63)的厚度为10~100μm的分离膜复合体(1),能够作为比以往提高了通量和选择性的过滤膜而利用。 | ||
搜索关键词: | 分离 复合体 制造 方法 | ||
【主权项】:
1.一种分离膜复合体,其特征在于,为具有多孔质体和在该多孔质体的表面形成有分离膜的复合体,所述多孔质体包括基材、在该基材上形成的中间层和在该中间层上形成的表面层,在该多孔质体的表面层上直接形成所述分离膜,且所述中间层的厚度为10~100μm。
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