[发明专利]利用发色材料形成沟槽图案的方法有效
| 申请号： | 200880022193.3 | 申请日： | 2008-05-30 |
| 公开（公告）号： | CN101720347A | 公开（公告）日： | 2010-06-02 |
| 发明（设计）人： | 韦恩·S·马奥尼;温迪·L·汤普森;唐纳德·J·穆克卢尔;马修·S·斯泰;哈桑·萨霍阿尼 | 申请（专利权）人： | 3M创新有限公司 |
| 主分类号： | C09K19/34 | 分类号： | C09K19/34;C09K19/00;C09K19/58;G02F1/1337;B05D5/12 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人： | 郇春艳;樊卫民 |
| 地址： | 美国明*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 描述了一种用于在干发色层内形成沟槽的方法。将涂料组合物施加至基底、进行干燥并且使其暴露在亲水性有机溶剂中以形成沟槽图案，所述沟槽图案具有第一组沟槽以及与所述第一组沟槽基本上垂直的第二组沟槽。可将沉积材料设置在所述沟槽内以形成纳米结构化图案。还描述了一种具有沟槽图案的制品。 | ||
| 搜索关键词： | 利用 材料 形成 沟槽 图案 方法 | ||
【主权项】：
一种方法，包括：将涂料组合物沿涂布方向施加至基底表面以形成发色层，所述涂料组合物包含发色材料、表面改性的无机纳米粒子和水；从所述发色层中移除至少一部分所述水以形成干发色层；以及使所述干发色层暴露于亲水性有机溶剂以在所述干发色层内形成沟槽图案，所述沟槽图案包括(a)沿涂布方向的第一组沟槽以及(b)与所述第一组沟槽基本上垂直的第二组沟槽，其中所述第一组沟槽和所述第二组沟槽的平均沟槽深度等于所述干发色层的平均厚度。
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