[发明专利]具有不同掺杂的有应变的电流电极区域的晶体管有效

专利信息
申请号: 200880024566.0 申请日: 2008-06-12
公开(公告)号: CN101743621A 公开(公告)日: 2010-06-16
发明(设计)人: 张达;马克·C.·福伊希 申请(专利权)人: 飞思卡尔半导体公司
主分类号: H01L21/265 分类号: H01L21/265
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 代理人: 屠长存
地址: 美国得*** 国省代码: 美国;US
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 通过提供半导体层(103)并且在该半导体层上形成控制电极(105)来形成晶体管。去除控制电极侧面的半导体层的一部分以在控制电极的相对两侧上形成第一凹口(201)和第二凹口(203)。第一应力源(301)形成在第一凹口内并且具有第一掺杂分布。第二应力源(303)形成在第二凹口内并且具有第一掺杂分布。第三应力源(401)形成在第一应力源上。第三应力源具有第二掺杂分布,该第二掺杂分布具有比第一分布更高的电极电流掺杂浓度。第四应力源(403)在第二应力源上形成并且具有第二掺杂分布。晶体管的第一电流电极和第二电流电极分别至少包括第三应力源和第四应力源的一部分。
搜索关键词: 具有 不同 掺杂 应变 电流 电极 区域 晶体管
【主权项】:
一种方法,包括如下步骤:提供半导体层;在该半导体层上形成晶体管的控制电极;去除该控制电极侧面的该半导体层的一部分而在该控制电极的相对两侧上形成第一凹口和第二凹口;在第一凹口内形成第一应力源,该第一应力源具有第一原位电流电极掺杂分布;在第二凹口内形成第二应力源,该第二应力源具有第一原位电流电极掺杂分布;在第一应力源上形成第三应力源,该第三应力源具有第二原位电流电极掺杂分布,该第二原位电流电极掺杂分布具有比第一原位电流电极掺杂分布更高的第一导电类型电流电极掺杂浓度;以及在第二应力源上形成第四应力源,该第四应力源具有第二原位电流电极掺杂分布;其中该晶体管的第一电流电极和第二电流电极分别至少包括第三应力源和第四应力源的一部分。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于飞思卡尔半导体公司,未经飞思卡尔半导体公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200880024566.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top