[发明专利]具有不同掺杂的有应变的电流电极区域的晶体管有效
申请号: | 200880024566.0 | 申请日: | 2008-06-12 |
公开(公告)号: | CN101743621A | 公开(公告)日: | 2010-06-16 |
发明(设计)人: | 张达;马克·C.·福伊希 | 申请(专利权)人: | 飞思卡尔半导体公司 |
主分类号: | H01L21/265 | 分类号: | H01L21/265 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人: | 屠长存 |
地址: | 美国得*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 通过提供半导体层(103)并且在该半导体层上形成控制电极(105)来形成晶体管。去除控制电极侧面的半导体层的一部分以在控制电极的相对两侧上形成第一凹口(201)和第二凹口(203)。第一应力源(301)形成在第一凹口内并且具有第一掺杂分布。第二应力源(303)形成在第二凹口内并且具有第一掺杂分布。第三应力源(401)形成在第一应力源上。第三应力源具有第二掺杂分布,该第二掺杂分布具有比第一分布更高的电极电流掺杂浓度。第四应力源(403)在第二应力源上形成并且具有第二掺杂分布。晶体管的第一电流电极和第二电流电极分别至少包括第三应力源和第四应力源的一部分。 | ||
搜索关键词: | 具有 不同 掺杂 应变 电流 电极 区域 晶体管 | ||
【主权项】:
一种方法,包括如下步骤:提供半导体层;在该半导体层上形成晶体管的控制电极;去除该控制电极侧面的该半导体层的一部分而在该控制电极的相对两侧上形成第一凹口和第二凹口;在第一凹口内形成第一应力源,该第一应力源具有第一原位电流电极掺杂分布;在第二凹口内形成第二应力源,该第二应力源具有第一原位电流电极掺杂分布;在第一应力源上形成第三应力源,该第三应力源具有第二原位电流电极掺杂分布,该第二原位电流电极掺杂分布具有比第一原位电流电极掺杂分布更高的第一导电类型电流电极掺杂浓度;以及在第二应力源上形成第四应力源,该第四应力源具有第二原位电流电极掺杂分布;其中该晶体管的第一电流电极和第二电流电极分别至少包括第三应力源和第四应力源的一部分。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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