[发明专利]投射光学设备

摘要

一种投射光学设备，能够提供高图像质量以及具有减小的尺寸。投射光学设备包括光阀和投射光学系统，该投射光学系统包括第一光学系统(5)和第二光学系统(3′)，该第一光学系统(5)具有透射折射元件，该第二光学系统(3′)具有反射折射元件。形成在光阀上的图像被投射光学系统投射在投射表面(4)上。第一光学系统(5)中的光轴被纵向和横向折转。第一光学系统的第一组(5A)被容纳一个在空间(无用空间)内，该空间的下限被第二光学系统(3′)的下边缘限定，借此减少设备的深度。

主权项

一种投射光学设备，其特征在于，包括：空间光调制器；以及投射光学系统，所述投射光学系统包括第一光学系统和第二光学系统，所述第一光学系统具有透射折射元件，所述第二光学系统具有反射折射元件，其中由所述空间光调制器形成的图像被所述投射光学系统投射在投射表面上，其中，在由所述空间光调制器形成的所述图像的中心和所述投射表面之间的光路中，沿着从所述第二光学系统引至所述投射表面的光路行进的光线相对于所述投射表面的法线成角度地被投射，其中，当所述光线的行进方向上的矢量是矢量A时，实质上平行于所述投射表面的所述矢量A的投射分量被定义为向上方向，与所述向上方向相反的方向被定义为向下方向，其中，在更靠近所述空间光调制器的所述第一光学系统的区域中，所述第一光学系统的光轴在包括向上或向下方向的矢量的方向上被光路偏转单元折转。