[发明专利]照明光学系统、曝光设备、光学元件和其制造方法和装置制造方法无效
| 申请号： | 200880024806.7 | 申请日： | 2008-09-10 |
| 公开（公告）号： | CN101743497A | 公开（公告）日： | 2010-06-16 |
| 发明（设计）人： | 谷津修 | 申请（专利权）人： | 株式会社尼康 |
| 主分类号： | G02B26/08 | 分类号： | G02B26/08;G03F7/20;G02B27/09;G02B27/00 |
| 代理公司： | 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 11019 | 代理人： | 寿宁 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种照明光学系统，其在来自光源(1)的光线的基础上对要照明的表面照明，所述照明光学系统具有：第一光学路径，衍射光学元件(6)可布置于其中的第一位置处；第二光学路径，具有二维地形成阵列且个别地加以控制的多个光学元件(3a)的空间光调制器(3)可布置于其中的第二位置处；和第三光学路径，其为已通过所述第一光学路径和所述第二光学路径中的至少一者的光线的光学路径且一种分布形成光学系统(11)布置于其中。所述分布形成光学系统(11)基于已通过所述第一光学路径和所述第二光学路径中的至少一者的光线而在位于所述第三光学路径中的照明光瞳上形成预定的光强度分布。 | ||
| 搜索关键词： | 照明 光学系统 曝光 设备 光学 元件 制造 方法 装置 | ||
【主权项】：
一种照明光学系统，其在来自光源的光线的基础上对要照明的表面进行照明，其特征在于所述照明光学系统包含：第一光学路径，衍射光学元件可布置于其中的第一位置处；第二光学路径，具有二维地形成阵列且个别地加以控制的多个光学元件的空间光调制器可布置于其中的第二位置处；以及第三光学路径，其为已通过所述第一光学路径和所述第二光学路径中的至少一者的光线的光学路径，且一种分布形成光学系统布置于其中；其中所述分布形成光学系统基于已通过所述第一光学路径和所述第二光学路径中的至少一者的光线而在位于所述第三光学路径中的照明光瞳上形成预定的光强度分布。
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