[发明专利]经由种子印刷和镀覆进行的接触金属和互连金属的印刷无效

专利信息
申请号: 200880024999.6 申请日: 2008-07-17
公开(公告)号: CN101755339A 公开(公告)日: 2010-06-23
发明(设计)人: 阿迪提·钱德拉;阿尔万德·卡玛斯;詹姆斯·蒙塔格·克里夫斯;约尔格·罗克恩伯格;高岛真穗 申请(专利权)人: 蔻维尔公司
主分类号: H01L31/00 分类号: H01L31/00
代理公司: 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 11258 代理人: 李剑;南霆
地址: 美国加利*** 国省代码: 美国;US
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明揭示了利用包括硅化物形成金属的墨水来形成接触(和可选地,局部互连)的方法,包括这种接触和(可选的)局部互连的诸如二极管和/或晶体管之类的电器件,以及用于形成这种器件的方法。形成接触的方法包括以下步骤:将硅化物形成金属的墨水沉积到暴露的硅表面上,使墨水干燥以使硅化物形成金属前驱体形成,加热硅化物形成金属前驱体和硅表面以形成金属硅化物接触。可选地,金属前驱体墨水可以选择性地沉积到与暴露的硅表面相邻的电介质层上以形成包含金属的互连。此外,个或多个本体导电金属可以沉积在其余的金属前驱体墨水和/或电介质层上。可以利用这样的印刷接触和/或局部互连来制造诸如二极管和晶体管之类的电器件。
搜索关键词: 经由 种子 印刷 镀覆 进行 接触 金属 互连
【主权项】:
一种制造金属硅化物接触的方法,包括以下步骤:a)将包含硅化物形成金属的墨水沉积到暴露的硅表面上;b)使所述墨水干燥以形成硅化物形成金属前驱体;以及c)将所述硅化物形成金属前驱体和所述硅表面加热到第一温度达足以形成所述金属硅化物接触的时间长度。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于蔻维尔公司,未经蔻维尔公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200880024999.6/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top