[发明专利]用于流体注射器的改进的止回阀有效

专利信息
申请号: 200880025682.4 申请日: 2008-05-21
公开(公告)号: CN101896135A 公开(公告)日: 2010-11-24
发明(设计)人: R·P·布什曼 申请(专利权)人: RJC产品有限公司
主分类号: A61C17/06 分类号: A61C17/06;F16K15/00;A61C1/16
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人: 马洪;黄珏
地址: 美国明*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 一种在治疗部位基本上防止污染物回流的防回流系统。该系统包括一插入病人口中的流体排出器管,用于在施加阈值真空压力时移去流体。一防回流装置从流体排出器管中接受流体,并包括一内部定位的阀。一旦释放真空压力或减小真空压力,则该阀就阻止污染物回流。一旦施加了真空压力,该阀移到一打开位置,以允许流体流离治疗部位。该系统还可包括一次性盖构件,其延伸在抽吸系统的流体排出器末端、防回流装置和诸如开/关阀组件的其它结构特征中的至少一些部分上。防回流的类似原理可应用于流体分配器(例如,液体皂液分配器),其中,不希望有流体回流到流体储存容器内。
搜索关键词: 用于 流体 注射器 改进 止回阀
【主权项】:
一种真空防回流的系统,该系统包括:流体排出器管,所述流体排出器管适于插入到病人的口腔内;防回流装置,所述防回流装置包括:远端部分,所述远端部分形成阀座部分和入口,并可操作地连接到所述流体排出器管;近端部分,所述近端部分形成出口,并构造成可操作地连接到真空源和所述远端部分;阀构件,所述阀构件被保持在所述近端和远端部分之间,在由所述出口处的所述真空源施加的真空条件下,所述阀构件可从第一位置移动到第二位置,所述第一位置基本上阻塞所述入口和所述出口之间的流体流动,而在所述第二位置中,所述阀构件的一部分沿朝向所述出口的方向移动,以允许流体从所述入口流到所述出口;阀突出部,所述阀突出部构造成将所述阀构件偏压到所述第一位置中。
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